全球半导体-CHIPS IV:中国半导体自给率持续提升-Global Semis_ CHIPS IV_ China Semis self-sufficiency builds.pdf — HopeAlpha
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全球半导体-CHIPS IV:中国半导体自给率持续提升-Global Semis_ CHIPS IV_ China Semis self-sufficiency builds.pdf

Goldman Sachs (高盛) August 24, 2026
128K 字 2026-08-24 03:02
⚠️未能获取独立官方数据用于交叉验证,本分析主要基于研报原文,结论未经外部核对。
Goldman Sachs GS 同公司研报 →
24.74
EPS (2020)
58283000000.0亿
营收 (2025)

1. 研报核心观点摘要

Goldman Sachs(高盛)于2026年8月24日发布行业研究报告《全球半导体-CHIPS IV:中国半导体自给率持续提升》(Global Semis: CHIPS IV: China Semis self-sufficiency builds),作者团队包括Allen Chang、Verena Jeng等。该报告是继2023年首份中国半导体自给率研究后的第四版系列报告。

核心结论:中国半导体产业正持续填补供应链缺口,在设备、代工、存储、EDA等领域加速国产替代,先进制程供需缺口有望显著收窄;高盛首次覆盖中国DRAM龙头CXMT(长鑫存储),给予买入评级,12个月目标价人民币129元

支撑这一结论的关键数据包括: - 中国半导体资本开支预计2030年达820亿美元,较此前预测上调79%(原文)。 - 中国7nm及以下晶圆供需缺口(S/D gap)预计从2025年的92%收窄至2035年的34%(原文)。 - 7nm及以下晶圆需求2025-2035年CAGR为17%,2035年达61.9万片/月;供给CAGR为46%,2035年达41万片/月(原文)。 - CXMT产能预计2030年较2026年翻倍以上,达到66.5万片/月;其DRAM供应量2028年将相当于三星的41%、SK海力士的50%(2025年分别为28%和35%),并占据中国DRAM需求的50%(原文)。 - 中国IC产量自给率2026年6月已达70%(2010年1月为38%)(原文)。

最重要的正面支撑证据:半导体设备(SPE)覆盖从刻蚀/沉积扩展至高深宽比刻蚀、原子层沉积、离子注入、检测、计量等高端环节;EDA工具从模拟扩展至数字(布局布线、物理验证)及存储EDA;AI芯片从2023年FP16算力320 TFLOPS向2028年四季度FP8算力4 PFLOPS演进;存储从LPDDR4(X)升级至LPDDR6(2026年四季度)及HBM3/3E(2026年四季度);叠加客户“local for local”供应链多元化策略和生成式AI需求拉动。

2. 关键财务与业务拆解

本研报为行业研究,不涉及高盛自身财务报表。外部数据显示高盛最近财年营收582.8亿美元,市值约3026亿美元,PE16.05倍,PB2.87倍(来源:FinGPT/外部数据)。但需明确:该等数据与研报内容无直接关联,研报中820亿美元资本开支是中国半导体行业数据,而非高盛资本开支。

以下为研报披露的中国半导体关键市场预测数据(均为原文数据,除注明推算外):

指标 2025 2026E 2028E 2030E 2035E 来源
中国半导体资本开支(亿美元) 未披露 51 未披露 82 原文(2026-30E增速15%-79%)
中国WFE支出同比增速 +13% +20% +15% 原文
7nm及以下晶圆需求(千片/月) 未披露 未披露 未披露 未披露 619 原文
7nm及以下晶圆供给(千片/月) 未披露 未披露 未披露 未披露 410 原文
7nm及以下供需缺口(%) 92 34 原文
CXMT产能(千片/月) 未披露 约333* 未披露 665 原文(2030E较2026E翻倍以上)
CXMT供应量/三星(%) 28 41 原文
CXMT供应量/SK海力士(%) 35 50 原文
中国IC产量自给率(%) 70(2026年6月) 原文
中国AI芯片TAM(亿美元) 未披露 未披露 未披露 4,123 / 678 / 66(Bull/Base/Bear) 原文

*注:2026年产能为根据“2030E较2026E翻倍以上至66.5万片/月”反推的近似值(约33.3万片/月),原文未直接披露。

业务拆解方面:逻辑代工向7nm及以下推进,利用chiplet和先进封装提升生产良率;AI芯片向系统级计算(SuperPods)演进;存储从LPDDR4(X)向LPDDR6/HBM3/3E升级;EDA从模拟向数字全覆盖。研报强调这些进展由三大动力驱动:生成式AI、客户“local for local”供应链多元化、中国自给率政策承诺(原文)。

3. 研报逻辑链条与前提假设

推理步骤 核心逻辑 前提假设 假设脆弱性
1. 需求驱动 生成式AI、自给率政策、"local for local"策略共同拉动中国半导体需求,AI服务器需求CAGR达42% AI资本开支持续扩张;地缘政治格局不变;全球客户持续寻求第二供应商 中:AI需求可能周期性回落;若地缘缓和,"local for local"动力减弱
2. 资本开支上行 中国半导体资本开支2030年达820亿美元(上调79%),WFE支出2026-28年增长13%/20%/15% 资金可获取;设备可采购;政策支持持续 中高:融资收紧或制裁升级可能削减投资能力
3. 供应链补缺 SPE从刻蚀/沉积扩展至离子注入、检测、计量;EDA扩展至数字与存储 国产设备在高端环节通过验证;EDA工具满足先进制程需求 高:高端光刻仍是硬约束,EDA生态壁垒高
4. 先进制程供需缺口收窄 7nm及以下供给CAGR(46%)快于需求CAGR(17%),缺口2035年缩至34% 先进制程良率爬坡顺利;chiplet/先进封装有效弥补单芯片制程不足 高:若7nm以下关键设备受限,供给难以如期放量
5. CXMT份额与产能跃升 CXMT产能翻倍至66.5万片/月,2028年供应中国DRAM需求的50%,达三星/海力士的41%/50% HBM/先进DRAM良率达标;客户认证顺利;存储周期不出现严重下行 中高:存储价格战侵蚀盈利;技术授权中断风险

4. 主要风险与不确定性

风险类别 风险描述 来源 可能性 影响程度
研报提及 光刻设备(Lithography)缺失,导致价值自给率缺口仍大 研报原文
研报提及 R&D和资本开支与全球领先者差距仍大,需更多资本投入方能实现全球化 研报原文
模型补充 出口管制进一步升级,限制设备/EDA/技术授权获取 FinGPT分析 中高
模型补充 AI需求或存储市场需求不及预期,导致资本开支下修 FinGPT分析 中高
模型补充 国产良率爬坡慢于预期,CXMT等产能利用率不足 FinGPT分析 中高
模型补充 高盛与覆盖公司存在业务往来,研报可能系统性乐观 FinGPT分析

5. 估值与目标价逻辑

研报对CXMT首次覆盖给予买入评级,12个月目标价人民币129元。原文未披露具体估值方法(如PE/PS/EV-EBITDA),但结合其预测:2030年产能达66.5万片/月(较2026年翻倍)、2028年供应量达三星的41%/海力士的50%、占中国DRAM需求50%——目标价明显基于产能扩张和市场份额大幅提升的长期预期,隐含对存储行业景气回升和国产替代确定性的较强信心。目标价并未调整(首次覆盖),故不存在盈利预测或估值倍数变动的问题。

作为外部参照,高盛自身当前PE(TTM)为16.05倍、PB为2.87倍(FinGPT/外部数据),历史中枢与同业均值原文及外部数据均「未披露」。需明确指出:该研报不构成对高盛股票的评估,目标价针对的是CXMT,而非高盛。

6. 独立判断与情景分析

基于研报中给出的中国AI芯片TAM情景(2030年Bull/Base/Bear分别为4,123亿美元/678亿美元/66亿美元,对应出货量2.37亿颗/3,900万颗/400万颗),并结合7nm供需预测,我们构建如下情景:

情景 概率 核心条件 2030年中国AI芯片TAM 2035年7nm缺口 关键观察指标
乐观 ~30% AI需求超预期,管制未再升级,国产设备/良率快速爬坡 >4,000亿美元 <20% 国产GPU/HBM进展、CXMT HBM客户认证
基准 ~50% 符合研报预测:资本开支820亿美元,供给CAGR 46% ~680亿美元 ~34% 中国WFE支出增速、7nm良率、CXMT月产量
谨慎 ~20% 出口管制升级,AI需求回落,存储价格战 <100亿美元 >50% 制裁动态、CXMT产能利用率、AI服务器出货

乐观情景下,生成式AI训练/推理需求持续爆发,中国AI芯片TAM加速扩张;国产光刻/EDA在局部环节取得突破,7nm及以下供给放量快于预期;CXMT在HBM/先进DRAM领域获得关键客户认证,产能利用率维持高位。此情景下,研报对资本开支和供需缺口的预测可能被上修。

基准情景下,需求与供给按研报预测节奏推进,中国半导体资本开支年均增长15%-25%,7nm缺口逐步收窄至2035年34%。CXMT实现50%国产DRAM份额,但盈利仍受折旧和价格竞争压制。

谨慎情景下,美国或盟友进一步收紧半导体设备/技术出口管制,导致高端设备获取困难;同时全球AI资本开支进入调整期,存储芯片价格下行。中国半导体资本开支可能下修,CXMT产能扩张放缓,供给缺口收窄不及预期。

声明:本文基于公开研报分析整理,不构成投资建议。

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